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Detalhes dos produtos

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Alvo do titânio
Created with Pixso.

Meta de pulverização de titânio de alta pureza Gr1 Gr2 Gr5

Meta de pulverização de titânio de alta pureza Gr1 Gr2 Gr5

Nome da marca: LHTi
Número do modelo: Titanium Target
MOQ: 100 pieces
Preço: negociável
Condições de Pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union,
Capacidade de abastecimento: 5000 Pieces Per Month
Informações pormenorizadas
Place of Origin:
Baoji, Shaanxi, China
Certificação:
ISO9001, CE, API,etc
Câmera:
Quad (48MP + 8MP + 5MP + 2MP)
Pegada:
Grilizado
SERVIÇO:
OEM, ODM
Terminar:
polido e brilhante
Tipo de estoque:
Ajustável
Cor da faixa:
Prata
Flexibilidade:
Baixo
Palavra-chave:
Titânio que engasga o alvo
Características:
Cronógrafo, exibição de data, ponteiros luminosos
Condutividade elétrica:
3.1 MS/m
Ponto de ebulição:
3560 K
Movimento:
Quartzo
Condutividade Térmica:
21.9 W/m·K
Processamento:
Quadril
Controle de qualidade:
Testes ultrassônicos
Packaging Details:
All goods are packed by seaworth shipment materials or required by buyer
Supply Ability:
5000 Pieces Per Month
Destacar:

Alvo de pulverização de titânio de alta pureza

,

Indústria médica alvo de pulverização de titânio

,

Indicação de data Alvo de pulverização de titânio

Descrição do produto

Alvo de Sputtering de Titânio de Alta Pureza Gr1 Gr2 Gr5

Um alvo de sputtering de titânio é o material fonte usado em sputtering de magnetron para depositar um filme fino de titânio em um substrato. O alvo é bombardeado por íons em uma câmara de vácuo e os átomos de titânio ejetados se depositam na peça como um revestimento uniforme e de alta pureza. Como os dispositivos modernos precisam de filmes com apenas mícrons ou mesmo nanômetros de espessura, o alvo deve ser denso e livre de poros e inclusões para que o filme seja consistente em uma grande área. Este alvo de titânio é feito por prensagem isostática a quente (HIP) em Gr1, Gr2 e Gr5 e polido e brilhante, e é testado por ultrassom antes do envio.

Especificações Técnicas

Produto Alvo de sputtering de titânio
Material Titânio Gr1, Gr2, Gr5
Pureza Alta pureza
Processamento HIP (prensagem isostática a quente)
Acabamento Polido e brilhante
Serviço OEM, ODM
Controle de Qualidade Teste ultrassônico
Aplicação Revestimento de filme fino, eletrônicos, semicondutores

Materiais de Alvo Disponíveis

Material Tipo
Titânio Gr1, Gr2, Gr5 Titânio puro
TiAl Titânio alumínio
TiCr Titânio cromo
TiCu Titânio cobre
TiSi Titânio silício
Zircônio, cromo, molibdênio Outros metais de alvo

Propriedades Físicas

Propriedade Valor
Ponto de Fusão 1668 °C
Ponto de Ebulição 3560 K
Condutividade Elétrica 3.1 MS/m
Condutividade Térmica 21.9 W/(m·K)
Densidade 4.51 g/cm3

Fotos do Produto

High purity titanium sputtering target

Polished titanium sputter target Gr5

Aplicações

Alvos de sputtering de titânio são usados para revestimento de filme fino em componentes eletrônicos como diodos semicondutores, displays de cristal líquido e mídias de armazenamento óptico, onde o controle preciso da espessura do filme afeta a condutividade, o gerenciamento térmico e a durabilidade. Os filmes adicionam resistência à corrosão, resistência ao desgaste e melhor adesão entre as camadas. Como o HIP fornece um alvo denso e uniforme, o revestimento pode ser depositado uniformemente em grandes áreas com espessura consistente, o que é importante para a produção de painéis planos e óticas de precisão. Diferentes ligas de titânio e outros metais podem ser fornecidos para requisitos específicos de condutividade elétrica, estabilidade térmica e dureza.