Alvo de Sputtering de Titânio de Alta Pureza ASTM B348

Alvo de Sputtering de Titânio de Alta Pureza ASTM B348

Este alvo de sputtering de titânio de alta pureza é produzido a partir de titânio Grau 1, Grau 2, Grau 5, Grau 7 e Grau 12 com um teor de titânio de 99,5% no mínimo e teor de impurezas abaixo de 0,04%. Os alvos são forjados e usinados em CNC de acordo com ASTM B348 e ASTM B381 com uma densidade de 4,51 ou 4,50 g/cm3, e alvos de liga como Ti-Al, Ti-Cr e Ti-Zr, bem como cromo, zircônio, cobre e tungstênio também podem ser fornecidos.

Especificações Técnicas

Formatos e Tamanhos de Alvo Disponíveis

Aplicações e Vantagens do Titânio

Alvos de sputtering de titânio são usados em separação de semicondutores, revestimento de filmes, revestimento de eletrodos de armazenamento, revestimento por sputtering, revestimento de superfície e na indústria de revestimento de vidro. A pureza influencia fortemente o desempenho do filme depositado, pois maior pureza confere melhor resistência à corrosão e melhores propriedades elétricas e ópticas. Impurezas no alvo sólido, juntamente com vapor de oxigênio e água aprisionados em poros, são as principais fontes de contaminação do filme, e a densidade afeta tanto a taxa de sputtering quanto a qualidade elétrica e óptica do filme. Uma estrutura de grãos fina e uniformemente distribuída sputtering mais rápido e produz uma espessura de filme mais uniforme.

Qualidade, Personalização e Consulta

Os alvos são forjados e usinados em CNC sob controle de qualidade ISO9001 e embalados em sacos plásticos a vácuo com espuma e algodão pérola dentro de uma caixa de compensado livre de fumigação para atender aos padrões de transporte internacional. O formato, tamanho, grau e quantidade podem ser personalizados, a capacidade mensal atinge 5000 peças e a entrega normalmente leva de 15 a 20 dias. Por favor, envie o formato do seu alvo, dimensões, requisito de pureza e quantidade para que possamos preparar uma cotação.